任何一个行业的产生和发展都离不开科学技术的进步，这也是市场需求量不断扩大产生的对行业的促进，促使相关人员对产品的不断更新换代，那么在加工行业，这种要求更加的多，比如CMOS内窥镜的加工也是从传统的工艺走向更为先进的技术加工，那么它的使用特点有哪些呢？同时在使用的时候我们需要注意什么呢？
CMOS内窥镜的复位开关在曝光周期开始时闭合，以将光电二极管反向偏置到电压VD。接下来，开关打开并产生与入射光强度成正比的光电流。该电流在飞安到皮安范围内，太小而无法直接测量。如果我们将光电二极管暴露在光中一段时间，电流将在二极管电容CD上积分。存储的电荷为我们提供了更易于测量的更强的累积信号。此外，组合平均过程使累积信号更忠实地表示测得的光强度，尤其是在处理微弱或嘈杂的信号时。
请注意，CMOS内窥镜的阱容量设置了CD可以容纳的电荷量的上限。超过一定的光强度，二极管将饱和，累积的电荷将等于上图中所示的非常大值。因此，须谨慎选择积分期。另一个应该考虑的非理想效应是，除了光电流之外，还有另一个称为暗电流的电流分量流过二极管。暗电流是在没有光的情况下发生的电流。CMOS内窥镜须更小化该电流分量以更大化器件灵敏度。二维光电探测器阵列用于检测入射光强度。光电探测器产生的电荷被转换为电压信号，并通过“行选择”和“列选择”开关阵列传递到输出放大器。
为了执行读出，给定行的像素值被并行传输到一组存储电容器（上面未显示），然后这些传输的像素值被顺序读出。顾名思义，CMOS内窥镜是使用标准CMOS技术制造的。这是一个主要优势，因为它允许我们将传感器与成像系统所需的其他模拟和数字电路集成在一起。集成解决方案使我们能够降低功耗并提高读取速度。这不同于电荷耦合器件(CCD)等其他图像传感器技术，后者基于针对电荷转移和成像优化的专用制造技术。
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